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设备类别

设备名称

设备型号

材料生长

(MOCVD)晶片生长系统

固相外延设备

PRO Line Solid

Phase Epitaxy S

分子束外延系统

MBE-35-N-4

薄膜工艺

金属有机物化学气相淀积系统

AIXTRON AIX 2400

化学气相沉积设备

oerlikon790

高级型原子层沉积系统

PEALD R200 Advanced

等离子体增强原子层沉淀系统

PEALD-150A

电子束蒸发台

ohmiker-50

磁控溅射镀膜机(溅射设备)

PVD75

金属镀膜系统

电子束蒸发真空薄膜沉积系统

PRO LINE PVD75

微波等离子化学气相沉积系统

PLASSYS-BESEK SAS SSDR150

真空物理沉积系统

Nrxdep

脉冲激光沉淀系统

TSST-PLD

扩散

扩散炉

SRD-165/3

刻蚀

反应离子刻蚀系统

RIE-790

感耦合等离子体刻蚀机

PlasmaPro

光刻

光刻机

NIKON NSR1755I7B

电子束光刻机

接触式紫外光刻机

MA6

减薄

研磨抛光机

IB400

划片

自动切割机(划片机)

DAD322

封装

自动焊机

M200

原子力显微镜

AT5500

高分辨X射线衍射仪

D8 Discover

非接触方块电阻测试仪

LEI1510

光谱椭偏仪

M2000D

扫描式电子显微镜

JSM-7800F

场发射透射电子显微镜

JEM-2100F

聚焦离子扫描电子显微镜

4200A-SCS

拉曼光谱仪

LABHR-UV

激光共聚焦显微拉曼光谱仪

LabRAM HR Evolution

霍尔效应测试系统

8404

光谱椭偏仪

M-2000U

低温真空探针台

TTPX

台阶仪

XP-1

RF/微波探针系统

Cascade/s9101 6

3KV/40A智能大功率探针台

MPS150-C1A

大功率、大尺寸探针台

S-1106S-8N

晶圆平整度分析仪系统

Helios G4

网络分析仪

E8363B

原子力显微镜

AT5500

扫描式电子显微镜

JSM-7800F

场发射透射电子显微镜

JEM-2100F

聚焦离子扫描电子显微镜

4200A-SCS

半导体器件分析仪

B1500A

半导体参数分析仪

HP4156 B

高分辨率信号分析仪

N9020A

光谱椭偏仪

M-2000U

半导体参数测试仪

4200-SCS/F

阻抗分析仪

TDS800B

RF/微波探针系统

Cascade/s9101 6

半导体特性分析系统

Kerthley 4200

3KV/40A智能大功率探针台

MPS150-C1A

大功率、大尺寸探针台

S-1106S-8N

器件可靠性测试专用设备

4200A-SCS

负载牵引系统

MAURY MICROWAVE,MT982AU

谐波负载牵引系统

iCCMT5080

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